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CS310M電化學工作站

CS310M電化學工作站

產(chǎn)品型號：

所屬分類：電化學工作站

更新時間：2024-09-09

簡要描述：全浮地式設計，具有出色的穩(wěn)定性和精確度，性價比高，具備所有基礎電化學以及阻抗測試功能。
● 新增IR補償功能、恒流阻抗測試技術
● 包含基礎功能和阻抗模塊，滿足大部分研究領域
● 全浮地模式，性價比高
● 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V（可選30V）
● 電流控制范圍：±2A（可擴展至20A/40A/100A）
● 電位分辨率：1μV，電流分辨率：1pA（可選100fA）

詳細說明：

產(chǎn)品介紹
      CS電化學工作站采用全浮地式設計，具有出色的穩(wěn)定性和精確度，先進的硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學、環(huán)保等領域的科技工作者提供了優(yōu)秀的科研平臺。  
 
     應用
   （1）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、先進功能材料以及傳感器的性能研究；
   （2）電化學分析研究；
   （3）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應機理研究；
     (4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價；
   （5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價。

     硬件特點
    ● 雙通道相關分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
    ● 內(nèi)置FRA頻響分析儀，頻率范圍 10μHz ~1MHz
    ● 高帶寬高輸入阻抗的放大器
    ● 內(nèi)置FPGA DDS信號合成器
    ● 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計
    ● 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V（可選30V）
    ● 電流控制范圍：±2A （可擴展至20A/40A/100A）
    ● 電位分辨率：1μV，電流分辨率：1pA（可選100fA）             
             
    軟件特點
       ① 數(shù)據(jù)分析
       伏安曲線的平滑、積分和微分運算，計算各氧化還原峰的峰電流、峰電位和峰面積等；
       極化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動力學解析，計算Tafel斜率ba，bc，腐蝕電流密度icorr，極限擴散電流、極化電阻Rp和腐蝕速率等，還可由電化學噪聲譜計算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
       ② 實時存儲
       CS Studio實時存儲測量數(shù)據(jù)，即使因斷電導致測試中斷，中斷之前的數(shù)據(jù)也會自動保存。
       ③ 定時測量
       CS Studio測試軟件具有定時測量功能， 對于某些需要研究體系隨時間變化特征時，可提前設好測試參數(shù)與間隔時間，讓儀器在無人值守下自動定時測量，為實驗提供方便。
 
    技術優(yōu)勢
       ① 交流阻抗
      儀器采用相關積分算法和雙通道同步過采樣技術，具有較強的抗干擾能力，尤其適合于涂層、混凝土等高阻體系（>109Ω）的交流阻抗測量，也可用于Mott-Schottky 曲線和微分電容曲線繪制。軟件能實時顯示開路電位，用戶無需輸入，即可輸出準確的極化過電位。
      具有恒流阻抗測試功能，尤其適合于18650、軟包電池等超低阻儲能器件的交流阻抗測量。
       ② 極化曲線
      具有線性極化和Tafel極化曲線測量功能，用戶可設定循環(huán)極化曲線的陽極回掃電流（鈍化膜擊穿電流），來確定材料的點蝕電位和保護電位，評價晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線，可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評價。
 
6063鋁合金在含Ce3+的3%NaCl溶液中的EIS               鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液中的極化曲線
 
       ③ 伏安分析
      能完成線性掃描伏安（LSV）、循環(huán)伏安（CV）等電分析方法，集成峰面積、峰電流計算和標準曲線分析功能。
 
   
聚吡咯超級電容器在0.5mol/L H2SO4溶液中的CV曲線            鉑電極在K4[Fe(CN)6] + KCl溶液中的CV曲線     
 
       ④ 電化學噪聲
      采用高阻跟隨器和零阻電流計測量腐蝕體系自發(fā)的電位與電流波動，可用于點蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應力腐蝕開裂 等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析，可評估亞穩(wěn)態(tài)蝕點或裂紋的誘導、生長和死亡過程?；谠肼曤娮韬忘c蝕指數(shù)計算，也可用于局部腐蝕監(jiān)測。
 

低碳鋼在0.05mol/L Cl-+0.1mol/L NaHCO3溶液中的電化學噪聲
 
       ⑤ 全浮地測量
      CS系列電化學工作站采用全浮地式工作電極，可用于工作電極本身接地體系的電化學研究，如用于高壓釜電化學測試（釜體接地），大地中金屬構(gòu)件（橋梁、混凝土鋼筋）的在線腐蝕研究等。
       ⑥ 正反饋IR補償
      啟動IR補償后，電化學工作站會增加一個額外模擬反饋路徑，通過測量電解池電流，啟用正反饋補償，硬件電路增加反饋信號，自動對Rs上的壓降進行補償。
       ⑦ 自定義方法
      支持用戶自定義組合測量，用戶可以設定定時循環(huán)進行某一測試方法或多種方法的組合測試，用于無人值守下的定時自動測量；
      提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實例，方便用戶二次開發(fā)和自定義測試方法；
      提供用戶自定義腳本編寫范例，用于實現(xiàn)您的電化學實驗技術。
技術指標
硬件參數(shù)指標
 恒電位控制范圍：±10V 恒電流控制范圍：±2A
 電位控制精度：0.1% 電流控制精度：0.1%
 電位靈敏度：1μV 電流靈敏度：1pA（可選100fA）
 電位上升時間：1μs 電流量程：2nA～2A 10檔
 參比電極輸入阻抗：1013Ω||8pF 最大輸出電流：±2A（可擴展至20A/40A/100A）
 槽壓輸出：±21V （可選30V） 電流掃描增量：1mA@1A/ms
 CV和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s 電位掃描電位增量：0.076mV @1V/ms
 CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
 SWV頻率：0.001～100KHz CV的最小電位增量：0.020mV
 AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1KHz 電流與電位量程：自動設置
 DA分辨率：16bit，建立時間：1μs 低通濾波器 ：8段可編程
 通訊接口：USB2.0、RJ45網(wǎng)口 儀器重量：7.6Kg
 外形尺寸（mm）：365(W)*338(D)*140(H)

電化學阻抗測量指標
 信號發(fā)生器
 頻率響應：10μHz～1MHz 交流信號幅值：0mV～2500mV
 頻率精確度：0.005% 信號分辨率：0.1mV RMS
 DDS輸出阻抗：50Ω 直流偏壓：-10V～+10V
 正弦波失真率：<1% 波形：正弦波，三角波，方波
 掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降
 信號分析器
 最大積分時間：106個循環(huán)或者105s 測量時間延遲：0～105s
 最小積分時間：10ms或者一個循環(huán)的最長時間
 直流偏置補償
 電位補償范圍：-10V～+10V 電流補償范圍：-1A～+1A
 帶寬調(diào)整：自動或手動設置, 共8級可調(diào)

儀器配置
1）儀器主機1臺
2)  CS Studio測試與分析軟件1套 
3）模擬電解池1個  
4）電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
5）電極電纜線1條
6）電腦（選配*）
功能方法
CS單通道系列不同型號功能方法比較
功能方法CS300MCS310MCS350M
穩(wěn)態(tài)極化 開路電位（OCP）●●●
 恒電位極化（i-t曲線）●●●
 恒電流極化●●●
 動電位掃描（Tafel曲線）●●●
 動電流掃描（DGP）●●●
 電位掃描-階躍

●
暫態(tài)極化 任意恒電位階梯波●●●
 任意恒電流階梯波●●●
 恒電位階躍（VSTEP）●●●
 恒電流階躍（ISTEP）●●●
計時分析 計時電位法（CP）●●●
 計時電流法（CA）●●●
 計時電量法（CC）●●●
伏安分析 線性掃描伏安（LSV）●●●
 循環(huán)伏安（CV）●●●
 階梯循環(huán)伏安（SCV）●
●
 方波伏安（SWV）●
●
 差分脈沖伏安（DPV）●
●
 常規(guī)脈沖伏安（NPV）●
●
 差分常規(guī)脈沖伏安（DNPV）●
●
 交流伏安（ACV）●
●
 二次諧波交流伏安（SHACV）●
●
 傅里葉變換交流伏安（FTACV）●
●
電流檢測 差分脈沖電流檢測（DPA）

●
 雙差分脈沖電流檢測（DDPA）

●
 三脈沖電流檢測（TPA）

●
 積分脈沖電流檢測（IPAD）

●
溶出伏安 電位溶出分析（PSA）●
●
 線性掃描溶出伏安（LSSV）●
●
 階梯溶出伏安（SCSV）●
●
 方波溶出伏安（SWSV）●
●
 差分脈沖溶出伏安（DPSV）●
●
 常規(guī)脈沖溶出伏安（NPSV）●
●
 差分常規(guī)脈沖溶出伏安（DNPSV）●
●
交流阻抗 頻率掃描-電位控制模式（EIS-V）
●●
 頻率掃描-電流控制模式（EIS-I）
●●
 電位掃描（IMPE,Mott-Schotty)
●●
 時間掃描-電位控制模式
●●
 時間掃描-電流控制模式
●●
充放電測試 電池充放電●●●
 恒電流充放電（GCD）●●●
 恒電位充放電●●●
 恒電位間歇滴定技術（PITT）●●●
 恒電流間歇滴定技術（GITT）●●●
雙恒測量 氫擴散測試（HDT）●●●
 盤環(huán)電極測試●●●
 法拉第效率測試●●●
擴展測量 電化學噪聲（EN）●●●
 電偶腐蝕測量（ZRA）●●●
 電化學溶解/沉積●●●
 控制電位電解庫倫法（BE）●●●
 動電位再活化法（EPR）●●●
 溶液電阻測量●●●
 循環(huán)極化曲線（CPP）●●●
 任意恒電位極化●●●
 腳本化定制測試●●●
注：*氫擴散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電極測試需配置CS1002恒電位/恒電流儀或采用CS2350M雙恒電位儀。
       *產(chǎn)品3年質(zhì)保。





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